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    <shurui>セミナー</shurui>
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    <pno> 31 </pno>
    <toki>平成２１年１２月４日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」 </tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．ディスク型遠心分離機による水系・アルカリ系洗浄液のリサイクル</font> </te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>アルファ・ラバル梶@プロセス機器事業本部　分離技術試験室　課長  青木　裕　</chosha1>
    <te-ma2>２．ＩＰＡ置換乾燥に代わるフッ素系溶剤を用いた高精度水切り・乾燥システム</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>潟Gー・エス・ケー　営業技術部　リーダー  木山晴之</chosha2> 
    <te-ma3>３．次世代半導体デバイスにおける超精密洗浄技術</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>ソニー梶@ｺﾝｽｰﾏｰﾌﾟﾛﾀﾞｸﾂ・ﾃﾞﾊﾞｲｽｸﾞﾙｰﾌﾟ 半導体事業本部 ｾﾐｺﾝﾀﾞｸﾀﾃｸﾉﾛｼﾞｰ開発部門 ﾌﾟﾛｾｽ設計部 ﾌﾟﾛｾｽﾏﾈｰｼﾞｬｰ 岩元勇人 </chosha3>
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    <pno> 30 </pno>
    <toki>平成２１年７月３日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」 </tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．工業用洗浄剤の実態調査(2007年度)</font> </te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>潟Wャパンエナジー　石油化学品部　工業用洗浄剤ユニットリーダー  野中孝一</chosha1>
    <te-ma2>２．産業洗浄におけるシミについて</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>荒川化学工業梶@機能材料事業部　営業部　部付部長  前野純一</chosha2> 
    <te-ma3>３．液晶用基板の洗浄技術</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>芝浦メカトロニクス梶@技術本部　研究開発グループ　技監  廣瀬治道 </chosha3>
</honbun>

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    <pno> 29 </pno>
    <toki>平成２１年２月１３日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」 </tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．ＶＯＣ排出抑制の現状と課題</font> </te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>社団法人産業環境管理協会　環境技術センター技術室　主幹  遠藤小太郎</chosha1>
    <te-ma2>２．エレクトロニクス実装における洗浄技術の動向と課題</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>実装技術ＮＰＯ法人サーキットネットワーク理事　(元) 鞄月ﾅ　回路部品事業部技師長・実装センター長 本多　進</chosha2> 
    <te-ma3>３．エレクトロニクス産業における洗浄技術</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>キヤノン梶@総合Ｒ＆Ｄ本部　材料技術開発センター　分析技術研究部　分析技術第二研究室　室長  中嶋生朗 </chosha3>
</honbun>

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    <pno> 28 </pno>
    <toki>平成１９年６月２２日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」 </tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．モントリオール議定書と京都議定書の最近の動き</font> </te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>経済産業省 製造産業局 オゾン層保護等推進室 課長補佐  山村　直弘</chosha1>
    <te-ma2>２．自動車部品リユースに関する洗浄調査報告</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>日本産業洗浄協議会 自動車部品洗浄評価ＷＧ委員長　森合精機（株）　常務取締役 
  森合　主税</chosha2> 
    <te-ma3>３．真空装置部品の洗浄技術</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>アルバックマテリアル 表面処理事業部 統括技術部技術２課 課長  北崎　正樹 </chosha3>
</honbun>

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    <pno> 27 </pno>
    <toki>平成１８年１１月１７日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」 </tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．“ＶＯＣ排出抑制の手引き”について</font> </te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>（社）産業環境管理協会 環境技術センター技術室 主査 遠藤小太郎 </chosha1>
    <te-ma2>２．ＶＯＣ排出抑制技術の評価 </te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>東京大学大学院工学系研究科 教授 工学博士 平尾雅彦 </chosha2> 
    <te-ma3>３．パネルディスカッション−ＶＯＣ排出抑制に如何に取り組むべきか？ </te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>座長　土井潤一　　パネラー　（社）産業環境管理協会 環境技術センター技術室主査 遠藤小太郎 
　　東京大学大学院工学系研究科 教授 工学博士　　平尾雅彦 
　　経済産業省 産業技術環境局環境指導室 課長補佐　　長濱裕二 
　　環境省 水・大気環境局大気環境課 課長補佐　　野沢 倫 
　　全国鍍金工業組合連合会 技術顧問　　武田光史 </chosha3>
</honbun>

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    <pno> 26 </pno>
    <toki>平成１８年６月２３日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．ガラス基板の精密洗浄技術開発
</font></te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>（株）トプコン　生産技術部　課長　高橋　崇 </chosha1>
    <te-ma2>２．自動車部品洗浄の技術動向
</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>（株）デンソー　材料技術部　主任部員　柳川　敬太 
</chosha2> 
    <te-ma3>３．半導体・ＦＰＤの洗浄原理と高性能化
</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>東北大学　未来科学技術共同研究センター　助教授　森永　均 
</chosha3>
</honbun>

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    <pno> 25 </pno>
    <toki>平成１７年１１月１８日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．新評価指針（ＣＷＰとＴＷＰＧ）を用いた洗浄剤評価−洗浄剤温暖化評価を検証する−
</font></te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>(独)産業技術総合研究所　総括研究員　関屋　章 </chosha1>
    <te-ma2>２．塩素系溶剤について−性状、適用法令、適正使用−
</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>（クロロカーボン衛生協会　技術部長　山下俊一 
</chosha2> 
    <te-ma3>３．光触媒反応を利用した廃水処理と超音波照射効果
</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>芝浦工業大学　工学部応用化学科教授　平野克比古 
</chosha3>
</honbun>

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    <pno> 24 </pno>
    <toki>平成１７年６月２４日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．平成１５年度PRTRデータ集計結果およびＰＲＴＲ管理マニュアル
</font></te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>経済産業省 獅山有邦  （社）化学工学会 佐藤朋有 </chosha1>
    <te-ma2>２．環境リスク低減化に向けた洗浄−動向調査と方向性の提示−
</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>（中）オゾン層・気候保護産業協議会 新井喜博 
</chosha2> 
    <te-ma3>３．産業洗浄に関わるＶＯＣの法改正（大気汚染防止法）
</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>大和化学工業（株） 土井潤一 
</chosha3>
</honbun>

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    <pno> 23 </pno>
    <toki>平成１７年３月２５日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．機能性選択膜による洗浄溶剤ミスト排出抑制新技術</font></te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>(株) EME　技術顧問　　　　　冠木公明</chosha1>
    <te-ma2>２．オリジナル洗浄システム“超音波まな板”</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>ジャパンフィールド(株)　取締役 経営管理部長	天野輝雄　システム部販売グループ　	米谷　満
</chosha2> 
    <te-ma3>３．エコステージ環境経営評価支援システム“環境マネジメントで勝ち残りを−21世紀型の企業経営へ−
</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>富士ゼロックス(株)　	ﾄﾞｷｭﾒﾝﾄｿﾘｭｰｼｮﾝ・ﾏｰｹﾃｨﾝｸﾞｶﾝﾊﾟﾆｰ 中央支社
					環境エコステージ準備室長	木越義廣
</chosha3>
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    <pno> 22 </pno>
    <toki>平成１６年１１月１９日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．メインテナンスフリーを可能にしたフィルターシステム〜スプリングフィルター,サイクロンセパレーター〜</font></te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>(株)ニクニ　Separatorプロジェクトリーダー		立川幸弘</chosha1>
    <te-ma2>２．LSI・FPD洗浄プロセスの課題と機能水洗浄技術</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>オルガノ(株)　新技術ﾏｰｹﾃｨﾝｸﾞﾃｰﾑﾘｰﾀﾞｰ		今岡孝之</chosha2> 
    <te-ma3>３．半導体クリーン化・洗浄技術の将来展望</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
        <chosha3>ソニー梶@厚木ﾃｸﾉﾛｼﾞｰｾﾝﾀｰ ｾﾐｺﾝﾀﾞｸﾀｶﾝﾊﾟﾆｰ 主幹研究員		服部　毅</chosha3>
</honbun>

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    <pno> 21 </pno>
    <toki>平成１６年６月１８日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．水を嫌う金属部品の新しい水系洗浄技術</font></te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>荒川化学工業梶@研究開発部　部長		前野純一</chosha1>
    <te-ma2>２．３次処理としての配管洗浄について</te-ma2>　<yousino2></yousino2>
  　    <chosha2>クリテックサービス梶@三重生産課　課長	竹下雅宣</chosha2> 
    <te-ma3>３．半導体組立工程におけるﾌﾟﾗｽﾞﾏ洗浄技術の最前線-ﾄﾞﾗｲ洗浄の用途と有効性-　→</te-ma3>　<yousino3>要旨No.51</yousino3> 
        <chosha3>鞄立ﾊｲﾃｸｲﾝｽﾂﾙﾒﾝﾂ　開発部 開発２課長	福田正行</chosha3>
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    <pno> 20 </pno>
    <toki>平成１６年２月２０日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．中国における産業洗浄ビジネスチャンス</font></te-ma1>　<yousino1></yousino1>
        <chosha1>ジャスト梶@顧問 　北村裕夫／蒲z光産業 主任　司徒伯陰</chosha1>
    <te-ma2>２．産業用水系洗浄剤の環境対応　→</te-ma2>　<yousino2>要旨No.49</yousino2>
  　    <chosha2>ライオン梶@化学品研究所主任研究員　　 牛山広俊</chosha2> 
    <te-ma3>３．超臨界流体とそれによる新しい洗浄技術　→</te-ma3>　<yousino3>要旨No.48</yousino3> 
        <chosha3>東京都立大学大学院　応用化学専攻 教授 　長浜邦雄</chosha3>
</honbun>

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    <pno>１9 </pno>
    <toki>平成１５年１１月２１日（金）　　　　　</toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1><font size="-1">１．環境負荷低減型化学洗浄　→</font></te-ma1>　<yousino1>要旨No.50</yousino1>
        <chosha1>鰍dＭＥ　技術顧問 　冠木公明</chosha1>
    <te-ma2>２．産業洗浄における界面活性剤の新しい応用技術　→</te-ma2>　<yousino2>要旨No.46</yousino2>
  　    <chosha2>元　ミヨシ油脂梶@技術開発部長　　 二宮守男</chosha2> 
    <te-ma3>３．新しい時代の化学物質管理としてのＥＶＡＢＡＴ　→</te-ma3>　<yousino3>要旨No.47</yousino3> 
        <chosha3>兜x士総合研究所　環境・安全グループ 　和田宇生</chosha3>
</honbun>

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    <pno>１8 </pno>
    <toki>平成１５年６月１３日（金） </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．機能水と超音波について</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>アルプス電気梶@プロセス技術開発センター 三森健一</chosha1>
    <te-ma2>２．省エネルギーを徹底追及した最新の液晶パネル工場　→</te-ma2>　<yousino2>要旨No.40</yousino2>  
        <chosha2>セイコーエプソン潟fィスプレイ事業部　 望月申治、元 セイコーエプソン鰍c環境技術開発部　 荒木敏彦</chosha2>
    <te-ma3>３．今後のフッ素系溶剤の展望　→ </te-ma3>　<yousino3>要旨No.41</yousino3> 
　　　        <chosha3>旭硝子梶@事業統括部ＣＳ推進グループ 花田　毅</chosha3>
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    <pno>１7 </pno>
    <toki>平成１５年２月２１日（金） </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．半導体洗浄の化学と次世代洗浄　→</te-ma1>　<yousino1>要旨No.38</yousino1>  
        <chosha1>三菱化学梶@化学システムサービス事業部　森永　均</chosha1>
    <te-ma2>２．ＰＲＴＲとリスクコミュニケーション　→</te-ma2>　<yousino2>要旨No.39</yousino2>  
        <chosha2>中小企業総合事業団　環境・安全等対策室　平田淳一</chosha2>
    <te-ma3>３．新フッ素系洗浄剤ＨＦＥ−Ｓ７について</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>ダイキン工業梶@化学事業部主任研究員　柴沼　俊</chosha3>
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    <pno>１6 </pno>
    <toki>平成１４年１１月２２日（金） </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．化学物質リスク削減のための技術の体系化と情報技術の利用</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>東京大学　工学系研究科助教授　平尾 雅彦</chosha1>
    <te-ma2>２．化学物質管理政策の新たな潮流〜環境リスク評価に基づく自主管理〜</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>経済産業省　化学物質管理課リスク評価室長　栗原 和夫</chosha2>
    <te-ma3>３．化学物質の総合的管理について</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>(社)日本化学工業協会　化学品管理部課長　石井 一弥</chosha3>
</honbun>

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    <pno>１5 </pno>
    <toki>平成１４年６月２１日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．水系洗浄剤の界面活性剤の動向　→</te-ma1>　<yousino1>要旨No.31</yousino1>  
        <chosha1>元ミヨシ油脂梶@二宮守男</chosha1>
    <te-ma2>２．水溶性廃液の再生を目的とした新しいサービスの提案　→</te-ma2>　<yousino2>要旨No.30</yousino2>  
        <chosha2>潟[オテック　井上雅仁</chosha2>
    <te-ma3>３．未来型洗浄剤の開発　３．１持続可能社会の構築と洗浄剤</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>(独)産業技術総合研究所　関屋　章</chosha3>
    <te-ma4>３．２含フッ素エーテル（HFE）洗浄剤の開発　→</te-ma4>　<yousino4>要旨No.29</yousino4> 
　　　        <chosha4>(独)産業技術総合研究所　水門潤治</chosha4>
</honbun>

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    <pno>１4 </pno>
    <toki>平成１４年２月２２日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．洗浄におけるPRTR法指定化学物質の排出量等の算出法　→</te-ma1>　<yousino1>要旨No.27</yousino1>  
        <chosha1> 潟_ン科学　研究開発部　部長　平塚　豊</chosha1>
    <te-ma2>２．芳香族炭化水素系洗浄剤(EMｸﾘｰﾝ)による光学部品の洗浄　→</te-ma2>　<yousino2>要旨No.28</yousino2>  
        <chosha2>日鉱石油化学梶@化成品第二部開発推進グループ　技師　山内辰也</chosha2>
    <te-ma3>３．排水の処理と回収技術について　→</te-ma3>　<yousino3>要旨No.25</yousino3> 
　　　        <chosha3>神鋼パンテック 水処理本部 担当次長　知福博行</chosha3>
</honbun>

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    <pno>１3 </pno>
    <toki>平成１３年１１月３０日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．キャビテーション噴流式洗浄法　→</te-ma1>　<yousino1>要旨No.24</yousino1>  
        <chosha1>東北大学　大学院工学研究科機械知能工学助教授　祖山　均</chosha1>
    <te-ma2>２．ﾄﾞﾗｲｱｲｽを使用したREM、Reuse用洗浄装置の開発</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>キヤノン梶@環境技術ｾﾝﾀｰ環境技術第一開発課課長　松久裕英</chosha2>
    <te-ma3>３．炭化水素液体取扱時の静電気着火事故と対策</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>独立行政法人　消防研究所　研究企画部部長　松原美之</chosha3>
</honbun>

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    <pno>１2 </pno>
    <toki>平成１３年６月２１日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．超純水および機能水について　→</te-ma1>　<yousino1>要旨No.10</yousino1>  
        <chosha1>栗田工業梶@装置事業部電子産業ｸﾞﾙｰﾌﾟﾘｰﾀﾞｰ　森田博志</chosha1>
    <te-ma2>２．超音波洗浄と脱気　→</te-ma2>　<yousino2>要旨No.11</yousino2>  
        <chosha2>三浦工業梶@水処理商品開発部部長　白石仁士</chosha2>
    <te-ma3>３．環境問題よりみた工業洗浄剤の使用実態と今後の動向に関する調査　→</te-ma3>　<yousino3>要旨No.12</yousino3> 
　　　        <chosha3>活ｮﾘｻｰﾁｾﾝﾀｰ　調査ｸﾞﾙｰﾌﾟ主幹研究員　新井喜博</chosha3>
</honbun>

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    <pno>１1 </pno>
    <toki>平成１３年３月９日 </toki>
    <tokoro>東京 笹川記念会館</tokoro>
    <te-ma1>１．環境マネジメントシステムと洗浄技術</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>鞄本環境認証機構　技術部主任審査員　松井茂雄</chosha1>
    <te-ma2>２．地球温暖化問題への産業界の課題</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>樺n球環境戦略研究機関　上席研究員　松尾直樹</chosha2>
    <te-ma3>３．洗浄現場のＰＲＴＲ対策＝排出量・移動量の算出法＝</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>潟_ン科学　研究開発部部長　平塚　豊</chosha3>
</honbun>

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    <pno>10 </pno>
    <toki>平成１２年１２月１３日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．溶剤洗浄におけるゼロエミッションのとりくみ</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>大和化学工業梶@代表取締役社長　土井潤一</chosha1>
    <te-ma2>２．超音波洗浄における、超音波効果理論と洗浄例</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>ｼｬｰﾌﾟﾏﾆｭﾌｧｸﾁｬﾘﾝｸﾞｼｽﾃﾑ梶@第二機器部係長　瀬川裕明</chosha2>
    <te-ma3>３．加工部品等の最近の洗浄技術</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>高橋金属梶@新商品開発部部長　西村清司</chosha3>
</honbun>

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    <pno>9 </pno>
    <toki>平成１２年７月２８日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．光洗浄技術</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>潟Pミトロニクス　代表取締役　本間孝治 </chosha1>
    <te-ma2>２．衣料の新しい洗浄技術</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>花王梶@生活文化研究所 第２研究室　鈴木 哲</chosha2>
    <te-ma3>３．機能水を用いた新しい洗浄技術</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>オルガノ梶@ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ営業部 新技術ﾏｰｹﾃｨﾝｸﾞﾁｰﾑ　二ッ木高志</chosha3>
</honbun>

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    <pno>8 </pno>
    <toki>平成１２年３月１０日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．容器包装リサイクル法への対応　→</te-ma1>　<yousino1>要旨No.2</yousino1>  
        <chosha1>中小企業総合事業団　田口計介</chosha1>
    <te-ma2>２．今が旬、おいしい環境ＩＳＯ（ISO14001）</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>轄総ﾛ規格研究所　志村登</chosha2>
    <te-ma3>３．ＰＲＴＲ法の概要と対応方法</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3> 社団法人 日本化学工業協会　大歳幸男</chosha3>
</honbun>

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    <pno>7 </pno>
    <toki>平成１１年１２月１３日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．静電気安全対策の基礎（炭化水素系洗浄剤の安全対策）</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>シムコジャパン 技術開発本部 本部長 蒲池正之介</chosha1>
    <te-ma2>２．洗浄と静電気</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2> カイジョー 研究開発本部 顧問 藤江明雄 </chosha2>
    <te-ma3>３．水系洗浄剤によるＨＤＤ部品等の超精密洗浄　→</te-ma3>　<yousino3>要旨No.1</yousino3> 
　　　        <chosha3>荒川化学工業 アルファ開発室 主任研究員 前野純一</chosha3>
</honbun>

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    <pno>6</pno>
    <toki>平成１１年７月２２日年月日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．企業における化学物質取り扱い管理</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>化学品安全管理研究所 所長 大島揮夫</chosha1>
    <te-ma2>２．最近の動向から考える機械部品洗浄装置選びのポイント</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>潟_ン科学 研究開発部長 平塚　豊</chosha2>
    <te-ma3>３．望まれる洗浄技術─現状と課題</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>文化女子大学 家政学部 教授　角田光雄</chosha3>
</honbun>

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    <pno>5</pno>
    <toki>平成１１年３月１９日年月日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．土壌・地下水環境保全とその対策</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>(社)土壌環境センター 市場開発グループ　兒玉利昭</chosha1>
    <te-ma2>２．リモネンを用いるリサイクルシステム</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>ソニー 中央研究所 環境研究センター　野口　勉</chosha2>
    <te-ma3>３．「不思議な力、水だけの洗浄」</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>鞄圏mウチナミテクノクリーン　横山 善朗</chosha3>
    <te-ma4>３．分離法を駆使した洗浄剤、リンス水のリサイクル例</te-ma4>　<yousino4></yousino4> 
　　　        <chosha4>旭化成工業梶@添加剤技術第２部　小林 博司</chosha4>
</honbun>

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    <pno>4</pno>
    <toki>平成１０年１２月１０日 </toki>
    <tokoro>大阪　新ダイビル</tokoro>
    <te-ma1>１．ＰＲＴＲ（環境汚染物質排出・移動量登録）とリスクコミュニケーション</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>(社)日本化学工業協会　大歳幸男</chosha1>
    <te-ma2>２．表面処理工程における水系洗浄剤</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>ディップソール梶@テクニカルセンター　田中茂実</chosha2>
    <te-ma3>３．最近の洗浄剤の動向について〜準水系洗浄剤〜</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>花王梶@化学品研究所　名越英二</chosha3>
    <te-ma4>４．フッ素系洗浄剤「ゼオローラＨ」</te-ma4>　<yousino4></yousino4>  
        <chosha4>日本ゼオン梶@ゼオローラ開発部　信夫雄二</chosha4>
</honbun>

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    <pno>3</pno>
    <toki>平成１０年９月２５日 </toki>
    <tokoro>大阪　新ダイビル</tokoro>
    <te-ma1>１．脱脂洗浄システム　水系洗浄剤</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>豊田化学工業梶@技術室市場開発グループ　河瀬篤司</chosha1>
    <te-ma2>２．炭化水素系洗浄剤の特性と洗浄システム</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>出光興産梶@潤滑油部潤滑技術二課　松山哲次</chosha2>
    <te-ma3>３．超音波と脱脂洗浄</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>且O社電機製作所　技術本部　山地信幸</chosha3>
    <te-ma4>４．スプレー洗浄の効率化提言</te-ma4>　<yousino4></yousino4>  
        <chosha4>森合精機梶@技術部開発課　野口浩司</chosha4>
    <te-ma5>５．脱脂用洗浄剤のリサイクル</te-ma5>  
        <chosha5>大和化学工業梶@営業技術部　寺道清登</chosha5>
    <te-ma6>６．脱脂洗浄の評価</te-ma6>
        <chosha6>長瀬産業梶@新規事業開発室　杉田　勝</chosha6>
</honbun>

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    <pno>2</pno>
    <toki>平成１０年７月１０日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．脱脂洗浄システム−（１）水系洗浄剤</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>潟pーカーコーポレーション　化学品開発課　羽芝　誠</chosha1>
    <te-ma2>２．脱脂洗浄システム−（２）非水系洗浄剤</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>住友スリーエム梶@化学製品事業部技術部　佐々木良一</chosha2>
    <te-ma3>３．脱脂洗浄システム−（３）超音波系洗浄装置</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>島田理化工業(株)　研究開発部　安井　亨</chosha3>
    <te-ma4>４．脱脂洗浄システム−（４）シャワー・スプレー系洗浄装置</te-ma4>　<yousino4></yousino4>  
        <chosha4>日本化工機工業梶@営業部　関　泰三</chosha4>
    <te-ma5>５．脱脂洗浄システム−（５）洗浄液のリサイクル</te-ma5>  
        <chosha5>東静電気梶@開発営業部　青野　宏</chosha5>
    <te-ma6>６．脱脂洗浄の評価</te-ma6> 
        <chosha6>　潟_ン科学　研究開発部　平塚　豊</chosha6>
</honbun>

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    <pno>1</pno>
    <toki>平成９年１２月１６日 </toki>
    <tokoro>東京 シャープ且sヶ谷ビル「エルムホール」</tokoro>
    <te-ma1>１．可燃物対応洗浄装置の安全について</te-ma1>　<yousino1></yousino1>  
        <chosha1>日本石油化学梶@主管研究員　野村秀樹</chosha1>
    <te-ma2>２．塩素系洗浄剤の規制動向と対策</te-ma2>　<yousino2></yousino2>  
        <chosha2>クロロカーボン衛生協会　技術部長　北　俊英</chosha2>
    <te-ma3>３．洗浄工程における洗浄性能評価技術の調査</te-ma3>　<yousino3></yousino3> 
　　　        <chosha3>ヘンケルジャパン梶@技術グループ　天田　徹</chosha3>
</honbun>

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