これからの工業用洗浄剤はどうなるのか 2011.10 ㈱エー・エス・ケー　梅木　義彦氏電解水の工業分野への利用・応用、特に電解水による金属表面洗浄 2011.10 新光電機工業（株）　竹ノ内　敏一氏超臨界二酸化炭素洗浄技術の現状と今後の展開 2011.10 東北大学大学院環境科学研究科　新井　邦夫氏ＥＶＡＢＡＴ－（ＶＯＣ排出抑制技術）効果と経済性ｼﾐｭﾚｰｼｮﾝ評価－ 2011.09 大和化学工業　土井潤一氏湿り気だけで油分を洗い流すエコ洗浄技術 2011.09 東京海洋大学　刑部昌弘氏新洗浄剤パートレル　の特徴 2011.09 三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ　菊池秀明氏、伊藤末希氏太陽電池製造への超音波の適用 2011.09 ㈱カイジョー　副島潤一郎氏液晶基板対応の洗浄技術 2011.09 芝浦メカトロニクス㈱　廣瀬治道氏部品洗浄装置への産業ロボットの適用 2011.09 森合精機㈱　松村繁廣氏フッソ系洗浄剤を用いた光学レンズの乾燥技術 2011.09 旭硝子㈱　津崎真彰氏真空洗浄技術 2011.09 ㈱クリンビー　岡村和彦氏ＬＥＤ部品の最新洗浄技術 2011.09 荒川化学工業㈱　前野純一氏、田中　俊氏産業洗浄に関わる環境法令（人体安全・地球環境等）の現状 2011.03 日本産業洗浄協議会ｼﾆｱｱﾄﾞﾊﾞｲｻﾞｰ　冠木公明氏水系洗浄剤・準水系洗浄剤の基礎 2011.03 （元）ミヨシ油脂㈱　二宮守男氏非水系洗浄剤の基礎 2011.03 JX日鉱日石ｴﾈﾙｷﾞｰ㈱　飯守慎太郎氏洗浄装置・洗浄システムの基礎 2011.03 日本産業洗浄協議会ｼﾆｱｱﾄﾞﾊﾞｲｻﾞｰ　平塚　豊氏中国上海における産業洗浄のビジネス勘どころ 2011.02 クリーク代表　日本産業洗浄協議会ｼﾆｱｱﾄﾞﾊﾞｲｻﾞｰ　北村裕夫氏人と環境にやさしい・水自体の洗浄力を高めた新感覚の洗浄液、無機質イオン洗浄液＜クリアイオン＞について 2011.02 ㈱アイ・デー・プロダクツ　瀬川昌臣氏、㈱クリア　福田国男氏ＩＰＡ置換乾燥に代わりうるフッ素系溶剤を用いたジェット水切り乾燥方法（ソルピカ方式） 2011.02 ㈱エー・エス・ケイ　梅木義彦氏現場の特徴に基づくＶＯＣ排出抑制対策の導出システム 2010.10 東京大学大学院工学研究科　菊池康紀氏物理洗浄による洗浄剤削減の試み 2010.10 静岡大学工学部　真田俊之氏今、なぜ環境経営なのか？ 2010.10 富士ゼロックス㈱　木越義廣氏産業におけるフッ素系洗浄 2010.10 新オオツカ㈱　斉田武彰氏アルカリ性電解水の生成と電解条件 2010.10 アマノ・エコ・テクノロジー㈱　古口塁氏ＩＰＡ置換乾燥や熱風乾燥に代わる精密水切り乾燥方式 2010.10 ㈱ソルベックス　広瀬勝範氏新しい超音波（測定、解析、制御）技術 2010.10 超音波システム研究所　斉木和幸氏水系洗浄システムにおける排水低減装置 2010.10 ㈱エー・エス・ケイ　時田康之氏ハロゲンフリーはんだ対応洗浄システム 2010.10 荒川化学工業㈱　前野純一氏ディスク型遠心分離による水系・アルカリ系洗浄液のリサイクル 2009.12 アルファ・ラバル㈱　青木裕氏ＩＰＡ置換乾燥に代わるフッ素系溶剤を用いた高精度水切り乾燥システム 2009.12 ㈱エー・エス・ケイ　木山晴之氏次世代半導体デバイスにおける超精密洗浄技術 2009.12 ソニー㈱　岩元勇人氏産業洗浄剤の選択のためのリスク評価手法～リスクトレードオフを乗り越えるために～ 2009.9 （独）産業技術総合研究所安全科学研究部門　岸本充生氏液体の水クラスターに関する誤解について 2009.9 山形大学理学部　天羽優子氏洗浄効果に及ぼす超音波周波数および溶存気体（酸素、水素、窒素）濃度、水深、温度依存性 2009.9 ㈱カイジョー　髙田誠氏、岡野勝一氏、今関康博氏水洗浄（純水）におけるウオーターマークとブリスター防止策 2009.9 伸栄化学産業㈱　鈴木康生氏工業洗浄用電解水の基本構造と設計手法について 2009.9 アマノ㈱　峠有利子氏、古口累氏機能水としてのアルカリイオン水の可能性 2009.9 日伸精機㈱　江口晴彦氏、大坪正人氏フッ素系洗浄剤エルノバＶ汚れ分離システムの特性 2009.9 旭化成ケミカルズ㈱　大谷哲也氏自動車・産業機械部品生産工程における無洗浄化と気化性防錆剤 2009.9 共栄社化学㈱　植田篤齋氏、福岡重範氏工業用洗浄剤の実態調査（2007年度） 2009.7 ㈱ジャパンエナジー　野中孝一氏産業洗浄におけるシミについて 2009.7 荒川化学工業㈱　前野純一氏液晶用基板の洗浄技術 2009.7 芝浦メカトロニクス㈱　廣瀬治道氏ＶＯＣ排出抑制の現状と課題 2009.2 （社）産業環境管理協会　遠藤小太郎氏エレクトロニクス実装における洗浄技術の動向と課題 2009.2 ＮＰＯ法人サーキットネットワーク　本多進氏エレクトロニクス産業における洗浄技術 2009.2 キャノン㈱　中嶋生朗氏産業洗浄技術のさらなる発展のために 2008.10 東京大学大学院工学研究科　平尾雅彦氏エレクトロニクス実装における洗浄技術の動向と課題 2008.10 荒川化学工業㈱　前野純一氏ＶＯＣ排出抑制・技術マニュアルと環境対策事例集 2008.10 ㈱旭リサーチセンター　新井喜博氏洗浄工程におけるＶＯＣ排出抑制の考え方と対策手法 2008.10 ㈱モリカワ　田中将博氏ノンハロゲン系抽出溶剤ＨＣ－ＵＶ45による被洗浄物の清浄度評価 2008.10 東ソー㈱　岩部一宏氏、㈱デンソー　柳川敬太氏電気分解によって得られる水溶液の特性とその作用 2008.10 アマノ㈱　峠有利子氏、古口累氏３Ｄマルチノズルの洗浄効果について 2008.10 ファインマシンカタオカ㈱　三嶋学氏、杉浦智和氏洗浄および表面処理槽底部のスラッジ、切粉を無人清掃 2008.10 ㈱ジャパン・フィールド　内野正俊氏、泉田義彦氏、弓削忠士氏化学工業における環境問題と企業経営 2007.9 東京農工大大学院　瀬田重敏氏先端半導体デバイスの超精密洗浄とナノ構造制御 2007.9 ㈱フジミインコーポレーテッド　森永均氏ＶＯＣ排出抑制のための定量実験に基づく洗浄装置モデル 2007.9 東京大学大学院（独）　菊池康紀氏ＶＯＣ排出抑制・そのエンドオブパイプ技術 2007.9 大和化学工業㈱　土井潤一氏フッ素系洗浄剤エルノバＶ２による蒸気洗浄の特長 2007.9 旭化成ケミカルズ㈱　小林博司氏、松本省慈氏水気洗浄における排水削減の切り札！”送風式蒸発器” 2007.9 ㈱エー・エス・ケー　時田康之氏液晶・プリント基板等のミスト洗浄用強打力２流体ノズル 2007.9 ㈱いけうち　権藤正則氏、矢口美帆氏自動車部品の洗浄と洗浄測定 2007.9 森合精機㈱　松村茂廣氏、森合主税氏モントリオール議定書と京都議定書の最近の動き 2007.6 経済産業省　オゾン層保護等推進室　山村直弘氏自動車部品リユースに関する洗浄調査報告 2007.6 森合精機㈱　森合主税氏真空装置部品の洗浄技術 2007.6 アルバックマテリアル㈱　北崎正樹氏 64. 「パネルディスカッション“ＶＯＣ排出抑制に如何に取り組むべきか？”」 2006.11 座長（大和化学工業(株)、日本産業洗浄協議会）土井潤一氏 63. 「ＶＯＣ排出抑制技術の評価ー産業洗浄におけるEVABAT導出に向けてー」 2006.11 東京大学大学院工学系研究科　平尾雅彦氏 62. 「“ＶＯＣ排出抑制の手引き”について」 2006.11 (社)産業環境管理協会環境技術センター　遠藤小太郎氏 61. 「半導体・ＦＰＤの洗浄原理と高性能化」 2006.11 東北大学未来科学技術共同研究センター　森永均氏 60. 「自動車部品洗浄の技術動向」 2006.6 (株)デンソー柳川敬太氏 59. 「ガラス基板の精密洗浄技術開発」 2006.6 (株)トプコン　高橋嵩氏、本宮慎介氏 58. 「旨い水と除菌効果」 2005.9 セパレーターシステム工業（株）　山地信幸氏、松澤皓三郎氏、松澤慎二氏 57. 環境特性・不燃性・高洗浄力を兼ね備えた画期的洗浄剤「ゼオローラ HG10」 2005.9 日本ゼオン㈱　木山晴之氏 56. 産業洗浄におけるVOC対策：自主的取り組み 2005.6 大和化学工業（株）　土井潤一氏 55. 「エコステージ」で始める環境経営 2005.3 富士ゼロックス㈱　木越義廣氏 54. 機能性選択膜による洗浄溶剤ミスト排出抑制新技術 2005.3 ㈱ＥＭＥ　冠木公明氏 53. バートレルＲ洗浄剤の特徴と洗浄事例 2004.9 三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　菊地秀明氏 52. 水系洗浄剤の高機能化 2004.9 ライオン株式会社　篠原　明氏 51. 半導体組立工程におけるプラズマ洗浄技術の最前線－ドライ洗浄の用途と有効性－ 2004.6 ㈱日立ハイテクインスツルメンツ福田正行氏 50. 環境負荷低減型化学洗浄 2003.11 ㈱ＥＭＥ冠木公明氏 49. 産業用水系洗浄剤の環境対応 2004.2 ライオン㈱牛山広俊氏 48. 超臨界流体とそれによる新しい洗浄技術 2004.2 東京都立大学大学院長浜邦雄氏 47. 産業洗浄における界面活性剤の新しい応用技術 2003.11 （元）ミヨシ油脂㈱二宮守男氏 46. 新しい時代の化学物質管理としてのEVABAT 2003.11 ㈱富士総合研究所和田宇生氏 45. フッソ系溶剤洗浄装置 2003.9 新オオツカ㈱寺内育朗氏 44. 産業洗浄をとりまく環境課題（要旨） 2003.9 ㈱ﾀﾞｲﾔﾘｻｰﾁﾏｰﾃｯｸ　竹下　宗一氏 43 バートレルa洗浄剤の優位性と洗浄事例 2003.6 三井･ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　菊地秀明氏 42 電解「水」の謎解き一手法 2003.6 ㈱三社電機製作所　〇山地信幸、村田裕康氏 41 今後のフッ素系溶剤の展望 2003.6 旭硝子㈱　花田　毅氏 40 省エネルギーを徹底追求した最新の液晶パネル新工場 2003.6 セイコーエプソン㈱　望月申治氏 39 ＰＲＴＲとリスクコミュニケーション 2003.2 中小企業総合事業団　平田淳一氏 38 半導体洗浄の化学と次世代洗浄 2003.2 三菱化学㈱　森永　均氏 37 精密洗浄における２流体ジェット洗浄技術 2002.9 島田理化工業㈱　園田治毅氏 36 高溶解性洗浄剤「NSクリーンRタイプ」と「EMクリーン」の洗浄事例 2002.9 日鉱石油化学㈱　星野光男氏、山内辰也氏 35 地球環境対応型フッ素系洗浄剤「ゼオローラH」 2002.9 日本ゼオン㈱　大槻記靖氏 34 節水型枚葉式超音波洗浄装置 2002.9 ㈱カイジョー　岡野勝一氏 33 地球環境にやさしいＮｏｖｅｃTM　ＨＦＥを使用した洗浄システムの紹介 2002.9 住友スリーエム株式会社　安藤伸明氏、薄井孝史氏 32 塩素系溶剤の現状と課題─クロロカーボン衛生協会の取り組み─ 2002.9 クロロカーボン衛生協会　山下俊一氏 31 水系洗浄剤の界面活性剤の動向 2002.6 (元)ミヨシ油脂㈱　二宮守男氏 30 洗浄廃液を出さないための、「出張受託加工サービス」について 2002.6 ㈱ゼオテック　井上雅仁氏 29 未来型洗浄剤の開発～含フッ素エーテル（HFE）洗浄剤の開発 2002.6 （独）産業技術総合研究所　水門潤治氏 28 芳香族炭化水素系洗浄剤(EMクリーン)による光学部品の洗浄について 2002.2 日鉱石油化学㈱　山内辰也氏 27 洗浄におけるＰＲＴＲ法指定化学物質の排出量等の算出法 2002.2 ㈱ダン科学　平塚　登氏 26 新しいフッ素系溶剤とその洗浄プロセス 2001.9 島田理化工業㈱　滝下和弘氏 25 排水の処理と回収技術について 2002.2 神鋼パンテック㈱　知福博行氏 24 キャビテーション噴流式洗浄法 2001.11 東北大学大学院　祖山　均氏 23 グリーン調達基準の統一化 2002.2 キヤノン㈱　木村輝三氏 22 次世代クリーニング技術“レーザークリーニング”のご紹介 2002.2 公共建物㈱　本村孔作氏 21 PRTR法への中小企業の対応実態と問題点について 2002.1 中小企業総合事業団　平田淳一氏 20 ドライアイスを使用したREM、REUSE用洗浄装置の開発 2002.1 キャノン㈱　松久裕英氏 19 不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤「ユトルーナ」及びその洗浄システム事例について 2001.9 ㈱トクヤマ　望月聡氏 18 超音波洗浄機における騒音発生のメカニズムと騒音対策 2001.9 超音波工業㈱　加藤　弘氏 17 オゾンの発生と洗浄への応用 2001.9 三菱電機㈱　安居院憲彰氏 16 ＰＲＴＲ法施行に当たっての洗浄現場の対応策について 2001.9 ㈱ダン科学　平塚　豊氏 15 バートレルaによる精密洗浄 2001.9 三井･ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　菊地秀明氏 14 炭化水素系洗浄剤「ゼオンソルブＣＰ－10」とフッ素系洗浄剤「ゼオローラＨ」 2001.9 日本ゼオン(株)　大槻記靖氏 13 地球環境にやさしい＜Ｎｏｖｅｃ＞ＨＦＥを使用した洗浄方法と事例の紹介 2001.9 住友スリーエム(株)　安藤伸明氏、薄井孝史氏 12 環境問題から見た工業洗浄剤の使用実態と今後の動向に関する調査 2001.6 (株)旭リサーチセンター　新井喜博氏 11 超音波洗浄と脱気 2001.6 三浦工業(株)　白石仁士氏 10 超純水および機能水について 2001.6 栗田工業株式会社　森田博志氏９. よくわかる洗浄装置の周辺技術 2000.1 日本ゼオン㈱　岩本英敏８. 洗浄における光触媒の効果について 2000.7 東陶器機㈱　仙洞田典雄氏７. 機能水による洗浄技術とその動向 2000.7 栗田工業㈱　森田博志氏６. 最近の磁気ディスク洗浄技術および洗浄装置 2000.7 島田理化工業㈱　杉山敏久氏５. レンズ製造工程における洗浄の現状と動向 2000.7 ㈱ネオス　和田　寛氏４. 次世代のフッ素系の化合物の開発と実用化で受賞 2000.6 日本ゼオン（株）３. 洗浄と静電気 2000.5 （株）カイジョー　藤江明雄氏２. 容器包装リサイクル法(法制定の背景と実施の意義) 2000.3 中小企業総合事業団　田口計介氏１. 水系洗浄剤によるHDD部品等の超精密洗浄 1999.12 荒川化学工業㈱　前野純一氏