64. 「パネルディスカッション“ＶＯＣ排出抑制に如何に取り組むべきか？”」 2006.11 座長（大和化学工業(株)、日本産業洗浄協議会）土井潤一氏 63. 「ＶＯＣ排出抑制技術の評価ー産業洗浄におけるEVABAT導出に向けてー」 2006.11 東京大学大学院工学系研究科　平尾雅彦氏 62. 「“ＶＯＣ排出抑制の手引き”について」 2006.11 (社)産業環境管理協会環境技術センター　遠藤小太郎氏 61. 「半導体・ＦＰＤの洗浄原理と高性能化」 2006.11 東北大学未来科学技術共同研究センター　森永均氏 60. 「自動車部品洗浄の技術動向」 2006.6 (株)デンソー柳川敬太氏 59. 「ガラス基板の精密洗浄技術開発」 2006.6 (株)トプコン　高橋嵩氏、本宮慎介氏 58. 「旨い水と除菌効果」 2005.9 セパレーターシステム工業（株）　山地信幸氏、松澤皓三郎氏、松澤慎二氏 57. 環境特性・不燃性・高洗浄力を兼ね備えた画期的洗浄剤「ゼオローラ HG10」 2005.9 日本ゼオン㈱　木山晴之氏 56. 産業洗浄におけるVOC対策：自主的取り組み 2005.6 大和化学工業（株）　土井潤一氏 55. 「エコステージ」で始める環境経営 2005.3 富士ゼロックス㈱　木越義廣氏 54. 機能性選択膜による洗浄溶剤ミスト排出抑制新技術 2005.3 ㈱ＥＭＥ　冠木公明氏 53. バートレルＲ洗浄剤の特徴と洗浄事例 2004.9 三井・ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　菊地秀明氏 52. 水系洗浄剤の高機能化 2004.9 ライオン株式会社　篠原　明氏 51. 半導体組立工程におけるプラズマ洗浄技術の最前線－ドライ洗浄の用途と有効性－ 2004.6 ㈱日立ハイテクインスツルメンツ福田正行氏 50. 環境負荷低減型化学洗浄 2003.11 ㈱ＥＭＥ冠木公明氏 49. 産業用水系洗浄剤の環境対応 2004.2 ライオン㈱牛山広俊氏 48. 超臨界流体とそれによる新しい洗浄技術 2004.2 東京都立大学大学院長浜邦雄氏 47. 産業洗浄における界面活性剤の新しい応用技術 2003.11 （元）ミヨシ油脂㈱二宮守男氏 46. 新しい時代の化学物質管理としてのEVABAT 2003.11 ㈱富士総合研究所和田宇生氏 45. フッソ系溶剤洗浄装置 2003.9 新オオツカ㈱寺内育朗氏 44. 産業洗浄をとりまく環境課題（要旨） 2003.9 ㈱ﾀﾞｲﾔﾘｻｰﾁﾏｰﾃｯｸ　竹下　宗一氏 43 バートレルa洗浄剤の優位性と洗浄事例 2003.6 三井･ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　菊地秀明氏 42 電解「水」の謎解き一手法 2003.6 ㈱三社電機製作所　〇山地信幸、村田裕康氏 41 今後のフッ素系溶剤の展望 2003.6 旭硝子㈱　花田　毅氏 40 省エネルギーを徹底追求した最新の液晶パネル新工場 2003.6 セイコーエプソン㈱　望月申治氏 39 ＰＲＴＲとリスクコミュニケーション 2003.2 中小企業総合事業団　平田淳一氏 38 半導体洗浄の化学と次世代洗浄 2003.2 三菱化学㈱　森永　均氏 37 精密洗浄における２流体ジェット洗浄技術 2002.9 島田理化工業㈱　園田治毅氏 36 高溶解性洗浄剤「NSクリーンRタイプ」と「EMクリーン」の洗浄事例 2002.9 日鉱石油化学㈱　星野光男氏、山内辰也氏 35 地球環境対応型フッ素系洗浄剤「ゼオローラH」 2002.9 日本ゼオン㈱　大槻記靖氏 34 節水型枚葉式超音波洗浄装置 2002.9 ㈱カイジョー　岡野勝一氏 33 地球環境にやさしいＮｏｖｅｃTM　ＨＦＥを使用した洗浄システムの紹介 2002.9 住友スリーエム株式会社　安藤伸明氏、薄井孝史氏 32 塩素系溶剤の現状と課題─クロロカーボン衛生協会の取り組み─ 2002.9 クロロカーボン衛生協会　山下俊一氏 31 水系洗浄剤の界面活性剤の動向 2002.6 (元)ミヨシ油脂㈱　二宮守男氏 30 洗浄廃液を出さないための、「出張受託加工サービス」について 2002.6 ㈱ゼオテック　井上雅仁氏 29 未来型洗浄剤の開発～含フッ素エーテル（HFE）洗浄剤の開発 2002.6 （独）産業技術総合研究所　水門潤治氏 28 芳香族炭化水素系洗浄剤(EMクリーン)による光学部品の洗浄について 2002.2 日鉱石油化学㈱　山内辰也氏 27 洗浄におけるＰＲＴＲ法指定化学物質の排出量等の算出法 2002.2 ㈱ダン科学　平塚　登氏 26 新しいフッ素系溶剤とその洗浄プロセス 2001.9 島田理化工業㈱　滝下和弘氏 25 排水の処理と回収技術について 2002.2 神鋼パンテック㈱　知福博行氏 24 キャビテーション噴流式洗浄法 2001.11 東北大学大学院　祖山　均氏 23 グリーン調達基準の統一化 2002.2 キヤノン㈱　木村輝三氏 22 次世代クリーニング技術“レーザークリーニング”のご紹介 2002.2 公共建物㈱　本村孔作氏 21 PRTR法への中小企業の対応実態と問題点について 2002.1 中小企業総合事業団　平田淳一氏 20 ドライアイスを使用したREM、REUSE用洗浄装置の開発 2002.1 キャノン㈱　松久裕英氏 19 不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤「ユトルーナ」及びその洗浄システム事例について 2001.9 ㈱トクヤマ　望月聡氏 18 超音波洗浄機における騒音発生のメカニズムと騒音対策 2001.9 超音波工業㈱　加藤　弘氏 17 オゾンの発生と洗浄への応用 2001.9 三菱電機㈱　安居院憲彰氏 16 ＰＲＴＲ法施行に当たっての洗浄現場の対応策について 2001.9 ㈱ダン科学　平塚　豊氏 15 バートレルaによる精密洗浄 2001.9 三井･ﾃﾞｭﾎﾟﾝﾌﾛﾛｹﾐｶﾙ㈱　菊地秀明氏 14 炭化水素系洗浄剤「ゼオンソルブＣＰ－10」とフッ素系洗浄剤「ゼオローラＨ」 2001.9 日本ゼオン(株)　大槻記靖氏 13 地球環境にやさしい＜Ｎｏｖｅｃ＞ＨＦＥを使用した洗浄方法と事例の紹介 2001.9 住友スリーエム(株)　安藤伸明氏、薄井孝史氏 12 環境問題から見た工業洗浄剤の使用実態と今後の動向に関する調査 2001.6 (株)旭リサーチセンター　新井喜博氏 11 超音波洗浄と脱気 2001.6 三浦工業(株)　白石仁士氏 10 超純水および機能水について 2001.6 栗田工業株式会社　森田博志氏９. よくわかる洗浄装置の周辺技術 2000.1 日本ゼオン㈱　岩本英敏８. 洗浄における光触媒の効果について 2000.7 東陶器機㈱　仙洞田典雄氏７. 機能水による洗浄技術とその動向 2000.7 栗田工業㈱　森田博志氏６. 最近の磁気ディスク洗浄技術および洗浄装置 2000.7 島田理化工業㈱　杉山敏久氏５. レンズ製造工程における洗浄の現状と動向 2000.7 ㈱ネオス　和田　寛氏４. 次世代のフッ素系の化合物の開発と実用化で受賞 2000.6 日本ゼオン（株）３. 洗浄と静電気 2000.5 （株）カイジョー　藤江明雄氏２. 容器包装リサイクル法(法制定の背景と実施の意義) 2000.3 中小企業総合事業団　田口計介氏１. 水系洗浄剤によるHDD部品等の超精密洗浄 1999.12 荒川化学工業㈱　前野純一氏