日本産業洗浄協議会

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第31号メールマガジン  2017年02月20日配信

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 日本産業洗浄協議会 メールマガジン 第31号
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第31号をお送り致します。
  今回は、(1)JICC洗浄大学産業洗浄中級講座について
       (2)地下水の水質汚濁に係る環境基準について
     (3)JICC会員の紹介

*このメールは、日本産業洗浄協議会の各種イベントでお預かりしたメールアドレス宛に
  お送りしています。不要な方は、末尾にてその旨ご返信下さい。
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     トピックス
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JICC洗浄大学産業洗浄中級講座について
来る3月23日開講の第23回JICC洗浄大学産業洗浄中級講座は、お陰様で早々に定員に達し
締め切らせていただきました。
【今回の講座内容】(講師)
・ガイダンス(日本産業洗浄協議会シニアアドバイザー 天田 徹氏)
・非水系不燃性洗浄剤の種類・用途および最近の開発状況について
(旭硝子㈱化学品カンパニー 機能商品開発室 ガス溶剤グループ グループリーダー 花田 毅氏)
・炭化水素系洗浄剤の種類・用途および新製品について
(JXエネルギー㈱ 機能化学品カンパニー 工業用洗浄剤事業グループ 担当マネージャー 山内 辰也氏)
・炭化水素系・溶剤洗浄剤及び洗浄機の種類および最近の開発状況
(日本産業洗浄協議会シニアアドバイザー 北村 裕夫氏)
・労働安全衛生保護具の選択と使用方法
(スリーエム ジャパン㈱ 安全衛生製品事業部学術部 國谷 勲氏)
☆詳細は、http://www.jicc.org/infomation/yousi_23daigaku.pdf をご覧ください。

キャンセル待ちの方も多く、好評につき同内容にて「追加講座」を計画しております。
開講日:4月7日(金)または、4月12日(水)(日程調整中)
(近日中にJICCホームページに掲載いたします。)

(2)地下水の水質汚濁に係る環境基準について
   昨年来、東京都豊洲市場の移転問題に関し、地下水の有害物質(ベンゼン、シアン、ヒ素3物質)に
ついての問題が議論されております。
 地下水の水質汚濁に係る環境基準の観点から基準及びその分析値について並べてみましたのでご覧下さい。

・豊洲市場の地下水分析値(基準値を超えた3物質)単位:mg/L
 ベンゼン 0.79
 シアン  1.2
 ヒ素   0.038

・環境基準 単位:mg/L
 ベンゼン 0.01
 シアン  検出されないこと
 ヒ素   0.01 以下

・参照:環境省 環境基準 詳細は以下のURLをご覧下さい。
http://www.env.go.jp/kijun/tikat1.html

●地下水の水質汚濁に係る環境基準

(地下水の水質汚濁に係る環境基準について『平成9年環境庁告示第10号』) 
【最終改正:平成26年環境省告示第127号】
28_01
(備考)
1 基準値は年間平均値とする。ただし、全シアンに係る基準値については、最高値とする。
2 「検出されないこと」とは、測定方法に掲げる方法により測定した場合において、その結   
果が当該方法の定量下限値を下回ることをいう。
(3)JICC会員の紹介
【常盤化学工業株式会社】
弊社は、1946(昭和21)年に創業し、現在は主に工業用水系接着剤および表面処理剤の製造・
販売をしております。
1975(昭和50)年に販売を開始した水系洗浄剤『バンライズ』シリーズは、非イオン系界面活性剤
や無機アルカリなどを主成分とする希釈タイプの洗浄剤です。溶剤系代替洗浄剤として、自動車部品
をはじめとする各種金属製品、電気・電子部品、ゴム、プラスチック成型品などの材質に対応し、
工場ラインの脱脂洗浄や精密洗浄を要する部品の洗浄など様々な用途でご愛用いただいております。
これからも、「お客様の多様なニーズに応える、高品質で環境負荷の少ない安全な製品づくり」
に磨きをかけ、お客様や社会との共栄を目指してまいります。
      会社URL http://www.tokiwakagaku.com


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 シリーズ連載 洗浄にかかわる用語解説
(75 レーザー 76 コヒーレンス 77 クロスコンタミネーション)
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75.レーザー Pulsed Laser
 パルスレーザーとは、細かい時間間隔で点滅をくり返すレーザーのことである。パルスレーザーの
1回のレーザー照射時間は、パルス幅と呼ばれる。パルスレーザーの中でも、特に発光時間(間隔)
の短いものが、超短パルスレーザーと呼ばれる。このようなレーザーは、超高速で発生する物理現象
を時間分解して測定するためには非常に有用な装置となる。なお、パルスレーザーに対して、連続的
に照射される連続波レーザーと呼ばれる。

76.コヒーレンス Coherence 可干渉
 波の持つ性質の一つで、干渉のしやすさを示す度合いのことである。同じ光源から発してそれぞれ
別の経路をたどった光は、わずかながら時間差をもって同一個所に到達する。このふたつの光が合成
されるとき、波長の位相によって干渉が起こる。波長の揃う・揃わないによって、光の強度を強め
あったり、あるいは弱めあったりする効果を生む。コヒーレンスの発生のしやすさは光波長の位相の
揃い方によって左右される。自然光の場合は、光の発生される初期位置の位相が不規則であるため、
コヒーレンスは生じにくい。逆にレーザー光線などは、人工的にコヒーレンスを生じやすくさせて光
を増幅する仕組みを採用している。

77.クロスコンタミネーション Cross Contamination
 同一装置内の一連の異種プロセス間で、それぞれのプロセスの生成物などが他のプロセス環境を汚染
すること。たとえば、配線プロセスのCu付ウェーハを処理した洗浄槽においてCuの付いていない
ウェーハを洗浄するとCu汚染が生じる場合がある。このように同一の装置によって意図しない汚染が
発生することをいう。

(以上は、産業洗浄技術情報誌「産業洗浄No.10:2012年9月」より抜粋)
 
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最後までご覧いただきありがとうございました。今後ともご愛顧のほどよろしくお願い致します。
 
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sskjicca@jicc.org
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日本産業洗浄協議会(JICC)事務局 
Japan Industrial Conference on  Cleaning
住所:〒105-0011 東京都港区芝公園1-3-5 バルコ御成門6F
 電話:03-5777-0791 FAX:03-5777-0675 
 URL : http://www.jicc.org/
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