第41号メールマガジン 2017年12月25日配信

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　日本産業洗浄協議会　メールマガジン　第41号
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第4１号をお送り致します。

 　今回は、（１）2017洗浄総合展の結果について
　　　　　（２）2017年度洗浄技術検定試験の結果について
                （３）シリーズ連載：洗浄にかかわる用語解説

この1年ＪＩＣＣのメールマガジンをお読み頂き感謝申し上げます。
来年もご愛読の程よろしくお願い致します。

　＊このメールは、日本産業洗浄協議会の各種イベントでお預かりしたメールアドレス宛に
　　お送りしています。不要な方は、末尾にてその旨ご返信下さい。
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　　　　　トピックス
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（１）2017洗浄総合展の結果について
2017洗浄総合展は、盛会のうちに終了致しました。お陰様で大勢のご来場を頂きました。
（入場者数：11月29日9,555名、11月30日10,169名、12月1日13,115名、合計32,839名）
弊協議会のブースでのアンケート調査にも多数ご協力頂き、心より感謝申し上げます。
・日時：11月29日（水）〜12月1日（金）　10時〜17時
・場所：東京ビッグサイト　東　第７・８ホール
１）ＪＩＣＣブース（日本産業洗浄協議会）東ホール（W8-13）
　　　・アンケート：約400名　
　＊写真は、ブースの模様です。

・洗浄相談コーナー：約70名
　

　　
２）第4回商流セミナー
日時：11月29日（水）15時〜17時
会場：東８ホール　ワークショップ会場
　　　   参加者：約70名
３）第21回ＪＩＣＣ洗浄技術フォーラム
　日時：11月30日（木）10時〜17時
　場所：東８ホール「セミナールーム」
　　　　参加者：約１１０名

（２）2017年度洗浄技術検定試験の結果について
　　昨年度に創設した洗浄技術検定（経済産業省後援）は、今年度が第２回となり、新たに
最高位の「洗浄マイスター」試験も実施しました。
１級、２級を含め初年度を上回る応募者を得て、事前講習会及び試験が終了しました。
１）事前講習会及び試験日程
　　○洗浄マイスター：10/6(金)事前説明会、10/17(火)試験
　○２級：12/14(木)〜15(金AM事前講習会、12/15(金)PM試験
　○１級：12/18(木)〜19(火)AM事前講習会、12/19(火)PM試験
　　　※写真は、２級事前講習会の模様です。
　

	２）応募者（受験者）数、合格者数
　○洗浄マイスター：応募者（受験者）２０名、合格者２名　
　○２級：応募者６１名（受験者５９名）→合格発表は1月末日予定
　　○１級：応募者７４名（受験者７３名）→合格発表は1月末日予定
３）第３回洗浄技術検定試験の予定
○2018（平成30）年7月1日〜受付開始
　詳細は、以下をご覧下さい。
　

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(３)　シリーズ連載　洗浄にかかわる用語解説
101．フラッシュメモリ　Flash Memory
102. NANDフラッシュメモリ　NAND-type Flash Memory
103. ベベル　Bevel
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101．フラッシュメモリ　Flash Memory
データの消去・書き込みを自由に行うことができ、電源を切っても内容が消えない半導体メモリの
一種。半導体メモリには、データの読み書きを自由に行えるが電源を切ると内容は消える「RAM」
（Random Access Memory）と、一度書き込んだ内容は消去できないが電源を切っても内容が消
えない（これを「不揮発性」という）「ROM」（Read Only Memory）があるが、フラッシュメモ
リは両者の要素を兼ね備えたメモリである。

102. NANDフラッシュメモリ　NAND-type Flash Memory
不揮発性記憶素子のフラッシュメモリの一種で、1987年に東芝㈱に在籍していた舛岡富士雄氏が
発明した。従来のフロッピーディスクに代わるＰＣ用のUSBメモリ、Flash SSD （SSD）、デジ
タルカメラ用のメモリーカード、携帯音楽プレーヤー、携帯電話などの記憶装置として使用される。

103. ベベル　Bevel
Siウェーハの端面および周辺の傾斜部の名称でウェーハエッジとも呼ばれる。低誘電率（low-k）
膜などの新材料や液浸露光といった新プロセスの導入に伴って、ベベルの異物や欠陥がLSIの歩留
まりに大きな影響を与えるようになった。

（以上は、産業洗浄技術情報誌「産業洗浄No.13　2014年3月号」より抜粋）
 
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最後までご覧いただきありがとうございました。今後ともご愛顧のほどよろしくお願い致します。
 
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