「産業洗浄」No.10

特集:明日の産業を支える新洗浄技術

• 創刊10号発刊にあたって 日本産業洗浄協議会 会長 土井 潤一

技術論文

• 最新の超音波洗浄技術 独立行政法人産業技術総合研究所 安井 久一
• 流体物理洗浄の概要と水蒸気二流体ジェットでの適用例 静岡大学工学部 真田 俊之
• 超臨界二酸化炭素による脱臭用フィルタの再生技術 独立行政法人産業技術総合研究所 川崎 慎一朗
• レーザークリーニング:極短パルスレーザー照射による シリコン表面付着パーティクルの除去 服部コンサルティング・インターナショナル 服部 毅
• 電解水を活用した衣類の洗浄 富山国際大学 尾畑 納子

JICCトピックス

• 地下水汚染未然防止のための水質汚濁防止法改正 クロロカーボン衛生協会 山本 保夫
• 2012年度 日本産業洗浄協議会 役員・委員
• 2012洗浄総合展 ~「根岸博士記念講演会」と「第16回 JICC洗浄技術フォーラム」~
• 第34回 JICC洗浄技術セミナー 洗浄技術委員会
• 日本産業洗浄協議会の協力活動

技術情報

• 短期連載 産業洗浄基礎知識(10) 洗浄装置と洗浄システム(その4) 平塚 豊
• 洗浄相談 Q&A 柳川 敬太
• 洗浄にかかわる用語解説 中嶋 生朗
• 広告索引
• 「産業洗浄」編集委員会
• 編集後記