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頒布価格等
第12回JICC洗浄技術フォーラム2008
平成20年(2008年)10月2日(木)
東京ビッグサイト 6階 606号室

 特別講演:
午前特別講演 「産業洗浄技術のさらなる発展のために」
   平尾雅彦 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学教授工学博士
午後特別講演 「エレクトロニクス実装における洗浄技術の動向と課題」
   前野純一 荒川化学工業梶@機能材料事業部 企画グループリーダー

 技術発表:
1.「VOC排出抑制・技術マニュアルと環境対策事例集」 
   新井喜博  活ョリサーチセンター
2.「洗浄工程におけるVOC排出抑制の考え方と対策手法」 
   田中将博  潟c潟Jワ
3.「ノンハロゲン系抽出溶剤HC-UV45による被洗浄物の清浄度評価」
   ○岩部一宏 東ソー梶A柳川敬太 潟fンソー
4.「電気分解によって得られる水溶液の特性とその作用」
   峠 有利子、古口 塁  アマノ
5.「3Dマルチノズルの洗浄効果について」
   ○三嶋 学、杉浦智和 ファインマシ-ンカタオカ
6.「洗浄および表面処理糟底部のスラッジ、切粉を無人清掃」
   ○内野正俊、泉田義彦、弓削忠士 ジャパン・フィールド

第11回JICC洗浄技術フォーラム
平成19年(2007年)9月13日(木)
東京ビッグサイト 6階 605号室

 特別講演:
午前特別講演 「化学工業における環境問題と企業経営」
   瀬田重敏 東京農工大学大学院 技術経営研究科 客員教授 博士(学術)
午後特別講演 「先端半導体デバイスの超精密洗浄とナノ構造制御」
   森永 均 (株)フジミインコーポレーデッド 研究開発センター 部長 工学博士

 技術発表:
1.「VOC排出抑制のための定量実験に基づく洗浄装置モデル」 
   菊池康紀 東京大学大学院 (独)日本学術振興会 特別研究員
2.「VOC排出抑制・そのエンドオブパイプ技術」 
   土井潤一  大和化学工業
3.「フッ素系洗浄剤エルノバ V2による蒸気洗浄の特長」
   ○小林博司 松本省慈 旭化成ケミカルズ
4.「水系洗浄における排水削減の切り札!“送風式蒸発器”」
   時田康之 潟Gー・エス・ケー
5.「液晶・プリント基板等のミスト洗浄用強打力2流体ノズル」
   ○権藤政則 矢口美帆 鰍「けうち
6.「自動車部品の洗浄と洗浄測定」
   ○松村繁廣 森合主税 森合精機


第10回JICC洗浄技術フォーラム
平成17年(2005年)9月1日(木)
東京ビッグサイト 会議棟 1F 102号室

 特別講演:
1.「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」
   安達 徹 経済産業省化学物質管理課オゾン層保護等推進室長
2.「化学物質自主管理とVOC対策」 
   獅山有邦 経済産業省化学物質管理課化学物質リスク評価室長
3.「新しい環境経営・支援システム“エコステージ”のJALグループにおける実践効果」     
   木越義廣 富士ゼロックス    松元泰志 鞄本航空    菅本進一 鰍iALシミュレーターエンジニアリング

 技術発表:
1.「VOC温暖化などの規制に対応する洗浄・水切り装置」 
   中矢圭一 泣Pンテック
2.「光学部品洗浄装置」 
   ○大和田達郎 滝下和弘 立幅義人 島田理化工業
3.「HCFCと同等以下のランニングコストを実現した“エルノバV2”の開発」
   松本省慈 旭化成ケミカルズ
4.「環境特性・不燃性・高洗浄力を兼ね備えた画期的洗浄剤“ゼオローラHG10”」
   木山晴之 日本ゼオン
5.「旨い水と除菌効果」 
   ○山地信幸 松澤慎二 松澤皓三郎 セパレーターシステム工業


第9回JICC洗浄技術フォーラム
平成16年(2004年)9月30日(木)
東京ビッグサイト 会議棟 1F 102号室

 特別講演:
1.「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」
   松尾武敏   経済産業省 化学物質管理課課長補佐
2.「化学物質の管理」 
   村越正毅   経済産業省 化学物質管理課課長補佐(化学物質評価企画担当)
3.「最適な洗浄技術を求めて〜汚れるということとは〜」     
   角田光雄   文化女子大学 服装学部教授

 技術発表:
1.「微細気泡を用いた溶剤レス洗浄技術」 
   ○宮本誠   上山智嗣 三菱電機梶A 園田治毅   島田理化工業
2.「テルペン系洗浄剤EC−7Rを用いた水系フラックス洗浄システムについて」 
   梅木義彦   東光技研工業
3.「バートレルâ洗浄剤の特徴と洗浄事例」 →要旨No.53 
   菊地秀明   三井・デュポンフロロケミカル
4.「水系洗浄剤の高機能化−ドライ洗浄の用途と有効性−」 →要旨No.52
   ○篠原明、藤田雄太、三宅博   ライオン
5.「旨い水、洗浄力のある水」 
   ○山地信幸、松澤慎二、松澤皓三郎    セパレーターシステム工業


第8回JICC洗浄技術フォーラム2003
平成15年(2003年)9月11日(木)
東京ビッグサイト 会議棟 6F 605/606号室

 特別講演:
1.「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」
   安達 徹   経済産業省 製造産業局オゾン層保護等推進室室長
2.「産業洗浄をとりまく環境課題」 →要旨No.44
   竹下宗一   潟_イヤリサーチマーテック
3.「化学物質リスク削減のためのEVABAT体系の確立」     
   渕野哲郎   東京工業大学大学院 理工学研究科化学工学助教授

 技術発表T:
1.「水系洗浄と炭化水素系洗浄の乾燥を融合した真空洗浄乾燥機」 
   堂元雅洋   潟Aクアテック
2.「逆洗時に完全洗浄可能なフィルターシステム」 
   加藤介重   潟jクニ
3.「フッ素系溶剤洗浄装置」 →要旨No.45
   寺内育朗   新オオツカ
4.「すべての溶剤が使える密閉洗浄装置・ケンテックPCS」 
   中矢圭一   (有)ケンテック
5.「電解水の謎解き一手法」→要旨No.43 
   ○山地信幸、村田裕康   且O社電機製作所

 技術発表U:
1.「水と反応する素材を使用した電子部品の水系洗浄技術」 
   前野純一   荒川化学工業
2.「臭素系洗浄剤『アブゾール』の洗浄システム」 
   ○倉林 努、服部祐一、射場ひろみ   アルベマール日本
3.「クリンベスト洗浄機nPB他の代替溶剤の使用実例」
   森口 朗   タイセイクリンケミカル
4.「バートレルâ洗浄剤の優位性と洗浄事例」→要旨No.42 
   菊地秀明   三井・デュポンフロロケミカル
5.「Novecä HFEの洗浄システム」 
   ○本村繁憲、佐々木良一、安藤伸明   住友スリーエム


第7回JICC洗浄技術フォーラム2002
平成14年(2002年)9月26日(木)
東京ビッグサイト 会議棟 1F 102会議室

 特別講演:
1.「フロン等に係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進について」
   掛江浩一郎  経済産業省 製造産業局オゾン層保護等推進室室長
2.「化学物質管理促進法の現状と課題」
   栗原和夫  経済産業省 製造産業局化学物質管理課リスク評価室長
3.「塩素系溶剤の現状と課題−クロロカーボン衛生協会の取り組み−」 →要旨No.32     
   山下俊一 クロロカーボン衛生協会 技術部長
4.「産業技術総合研究所が目指すもの」
   山辺正顕   独立行政法人産業技術総合研究所フッソ系等温暖化物質対策テクロジー研究センター長

 技術発表T:
1.「地球環境にやさしいNovecä HFEを使用した洗浄システムの紹介」 →要旨No.33
    ○安藤伸明  薄井孝史   住友スリーエム(株)
2.「節水型枚葉式超音波洗浄装置」 →要旨No.34
   岡野勝一   (株)カイジョー
3.「フッ素系洗浄剤ゼオローラHシリーズと炭化水素系洗浄剤ゼオンソルブCP-10の洗浄システム」 →要旨No.35
   ○大槻記靖  木山晴之  信夫雄二   日本ゼオン(株)
4.「高溶解性洗浄剤NSクリーン100RとEMクリーンの洗浄事例」 →要旨No.36
   ○星野光男  ○山内辰也   日鉱石油化学(株)
5.「二流体JET洗浄の応用プロセス技術」 →要旨No.37
   園田治毅   島田理化工業(株)
6.「臭素系洗浄剤ABZOLのメリット、洗浄事例及び環境測定結果について」
   ○進藤貞雄  服部祐一   アルベマール浅野(株)
   ○Joseph H. Miller   ALBEMARLE CORPORATION


第6回JICC洗浄技術フォーラム2001
平成13年(2001年)9月13日(木)
東京ビッグサイト 会議棟 6F 607/608会議室

 特別講演:
1.「オゾン層保護対策の推進について」
   河野春彦   経済産業省 製造産業局オゾン層保護等推進室室長
2.「化学物質管理促進法(PRTR法)について」
   坂口正之   経済産業省 製造産業局化学物質管理課課長補佐
3.「界面活性剤を使わないで油を油で乳化する」
   阿部正彦   東京理科大学 理工学部化学科教授

 技術発表T:
1.「PRTR法施行に当たっての洗浄現場の対応策について」 →要旨No.16
   平塚 豊   潟_ン科学
2.「光通信関連部品の最新洗浄技術」
   前野純一   荒川化学工業
3.「Eco-Snow Systems CO2粒子による洗浄技術」
   ○氏家敦、阿部寿   潟ーテック
4.「オゾンの発生と洗浄への応用」 →要旨No.17
   安居院憲彰  三菱電機

5.「エネルギー管理を目的とする超音波による流体計測」
   阿部 啓   潟Jイジョー
6.「超音波洗浄機における騒音発生のメカニズムと騒音対策」 →要旨No.18
   加藤 弘   超音波工業
7.「超大型低温処理用炭化水素系洗浄機」
   山地信幸   且O社電機製作所

 技術発表U:
1.「不燃性準水系洗浄剤「ユトルーナ」及びその洗浄システム事例について」 →要旨No.19
   望月 聡   潟gクヤマ
2.「マグネシウムの洗浄とノンクロム塗装前処理」
   天田 徹   ヘンケルジャパン
3.「地球環境にやさしいNovecä HFEを使用した洗浄方法と事例の紹介」 →要旨No.13
   ○安藤伸明、薄井孝史  住友スリーエム
4.「炭化水素系洗浄剤 ゼオンソルブCP-10とフッ素系洗浄剤ゼオローラH」 →要旨No.14
   大槻記靖   日本ゼオン

5.「新しいフッ素系洗浄剤とその洗浄プロセス」 →要旨No.26
   滝下和弘   島田理化工業
6.「バートレルâによる精密洗浄」 →要旨No.15
   菊池秀明   三井・デュポンフロロケミカル
7.「新規フッ素系洗浄剤"エルノバ"について(仮題)」
   松本省慈   旭化成


第5回JICC洗浄技術フォーラム2000
平成12年(2000年)9月27日(水)
東京ビッグサイト 会議棟 6F 607/608会議室

 特別講演:
1.「オゾン層保護対策と地球温暖化対策の推進」
   河野春彦   通商産業省 基礎産業局オゾン層保護対策室長
2.「化学物質管理促進法について」
   山口隆司   通商産業省 基礎産業局化学物質管理課班長
3.「超音波による有機物の分解」
   中村勇兒   国立環境研究所 環境研修センター

 技術発表T:
1.「韓国における代替洗浄の現況及び産洗協の技術指導現況」
   金 仁奎   韓国化学試験研究院
2.「フッ素系(バートレル)乾燥溶剤の最適使用条件と管理」
   ○菊地秀明 岩崎正佳 吉田一郎   三井デュポンフロロケミカル
3.「HFEを使用した洗浄事例の紹介」
   ○安藤伸明 薄井孝史   住友スリーエム
4.「フッ素系洗浄剤(ゼオローラ)を用いた新洗浄システム」
   田中公章   日本ゼオン

5.「次世代製造工程の創造(無洗浄化への第一歩)」
   宮鍋征克   肝ォーチュンケミダックス
6.「欧米市場における1-ブロモプロパン(アブゾール)クリーナーの使用例」
   スーチェンチャン  アルベマールコーポレーション
7.「炭化水素系洗浄剤(NSクリーン特殊タイプ)の洗浄事例」
   星野光男   日鉱石油化学

 技術発表U:
1.「インライン型量産部品の水系洗浄システム」
   山地信幸   且O社電機製作所
2.「圧縮深冷凝縮方式を用いた洗浄溶剤ガス回収装置」」
   佐藤俊彦   潟c潟Jワ
3.「ガラス状カーボン比抵抗センサー」
   田中敦志   潟Rス
4.「金属における洗浄測定・コンタミネーション管理事例の紹介」
   ○野口浩二 藤本幸男   森合精機
5.「大型ガラス基板非接触縦型洗浄装置」
   永田徹三   第一施設工業
6.「M角対応LCD向洗浄装置」
   嶋田 清   島田理化工業


第4回JICC洗浄技術フォーラム ’99
平成11年(1999年)9月9日(木)
東京ビッグサイト 会議棟 6F 607/608会議室

 特別講演:
1.「最近のオゾン層保護等に関する国内外の動向について」
   河野春彦   通商産業省 基礎産業局オゾン層保護対策室
2.「韓国のオゾン層破壊物質の現況と産洗協による韓国企業に対する洗浄技術現場指導に関して」
   ○金仁奎 李東機   韓国化学試験研究院
3.「水のラジカル活性」
   都田昌之    山形大学 工学部物質工学科教授

 技術発表:
1.「〈HFE〉(ハイドロフルオロエーテル)を用いた1液洗浄システム」
   安藤伸明    住友スリーエム
2.「バートレルâ水切乾燥溶剤」
   ○菊池秀明 横澤道則  三井デュポンフロロケミカル
3.「最近の超音波洗浄機と精密洗浄」
   高橋典久    潟Jイジョー
4.「水系洗浄装置・油水分離装置について」
   杉本 武    潟Gフエスケー

5.「超臨界洗浄技術について」
   南野康信   三菱化工機
6.「炭酸ガス洗浄システムの現状と将来の展望」
   ○三宅英雄 高岸秀夫   潟Aイテック
7.「減圧蒸気洗浄システム」
   北村裕夫   ジャパンフィールド


第3回JICC洗浄技術フォーラム ’98
平成10年(1998年)10月14日(水)〜15日(木)
東京ビッグサイト 会議棟 6F 607/608会議室

 特別講演:
1.「オゾン層保護活動10年の歩み」
   桜井俊樹   通商産業省 基礎産業局オゾン層保護対策室長
2.「最近の地下水汚染の状況とその対応」
   油本幸夫   環境庁 地下水・地盤環境室室長補佐
3.「洗浄技術の進歩と環境への配慮」
   神戸徳蔵   東京都鍍金工業組合 環境科学研究所長
4.「韓国の洗浄技術の現状」
   金 仁奎   (財)韓国化学試験研究院 技術企画課長
5.「半導体業界における地球温暖化対策」
   塚田 勉   アネルバ梶@半導体装置事業部部長代理

 セッション1 ユーザーの代替事例等:
1.「洗浄における塩素系等化学物質の適性管理」
   猪狩 将   中小企業事業団 化学物質安全対策指導員
2.「電機電子工業界における洗浄技術の事例」
   山本芳彦   日本電機工業会 鞄月ナ
3.「洗浄工程における環境問題への取り組み」
   中島生朗   キャノン
4.「洗浄分野におけるオゾン層保護対策の国際協力」
   太田 勉   セイコーエプソン

 セッション2 洗浄剤−1(水系・炭化水素系洗浄剤):
1.「ダイレクトパス洗浄システムの洗浄事例」
   前野純一   荒川化学工業梶@α開発室
2.「水系洗浄におけるリンス無排水化」
   塩田 堅   三菱化学梶@中間体事業部
3.「不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤」
   中島政明   潟gクヤマ SECシステム営業部
4.「炭化水素系洗浄剤の液管理方法について」
   藤原恒雄   日鉱石油化学梶@化成品第二部

 セッション3 洗浄剤−2(非水系洗浄剤):
1.「非水系洗浄剤SC−52シリーズについて」
   田中茂実   ディップソール(株) テクニカルセンター
2.「バートレルâ X−GY洗浄溶剤」
   菊地秀明   三井デュポンフロロケ三カル梶@テクニカルセンター
3.「HFE(ハイドロフルオロエーテル)を用いた洗浄システム」
   安藤伸明   住友スリーエム梶@化学製品事業部
4.「新フッ素系洗浄剤『ゼオローラ−H』」
   山田俊郎   日本ゼオン梶@開発研究所

 セッション4 洗浄機器:
1.「流水式超音波洗浄機パルスジェット」
   疋田智美   本多電子梶@産業機器事業部
2.「洗浄・乾燥とその最新技術」
   野畑博敬   島田理化工業梶@システム技術第一部精密装置化学課
3.「縦型真空洗浄装置」
   北村裕夫   ジャパン・フィールド
4.「ハロゲン系有機溶剤の回収リサイクル」
   佐藤俊彦   森川産業梶@環境機器部門営業技術ブロック


第2回JICC洗浄技術フォーラム ’97
平成9年(1997年)9月18日(木)〜19日(金)
東京ビッグサイト 会議棟 6F 607/608会議室

 基調講演:
1.「洗浄技術の現状と課題」
   角田光雄   文化女子大学 家政学部教授

 特別講演:
1.「韓国の代替洗浄技術に関する現況と展望」
   金 仁    
2.「オゾン層保護の歴史的意義」
   佐分利応貴  通商産業省 基礎産業局オゾン層保護対策室長補佐 
3.「洗浄剤と洗浄方法の変遷」
   間宮富士雄  間宮技術士事務所長

 洗浄剤のNEW WAVE:
1.「HFEs CFC Alternatives with a Balance of Properties」
   Tim Koenig    3M Performance Chemicals and Fluids
2.「Ozone-Friendly-Vertrel Formulations for Precision Cleaning and Speciality Applications」
   Sung C. Lee   Dupont Fluoroproducts Technical Manager
3.「Albemarle's Abzol Cleaners」
   Robert L. Smith, Ph. D. Albemarle Corporation    

 セッション1 現場指導員 ユーザーのエタン代替事例:
1.「洗浄アドバイザーから見た、九州の洗浄転換状況」
   新田信之   中小企業事業団 現場指導員 (有)オーディ九州 社長
2.「フラックス無洗浄技術について」
   石川鉄二   日本電子機械工業会 富士通
3.「金属加工の洗浄方法について」
   柳川敬太   日本自動車部品工業会 潟fンソー
4.「カメラ等精密部品における代替洗浄方式」
   吉田耿三   日本写真機工業会環境部会

 セッション2 洗浄剤1(非水系洗浄剤):
1.「不燃性の非水系洗浄剤『SC−52シリーズ』について」
   田中茂実   ディップソール梶@テクニカルセンター
2.「HFEを用いた水切り乾燥システム」
   矢ノ目秀利  住友スリーエム梶@化学製品技術部
3.「HFEによるコーソルベント洗浄」
   矢ノ目秀利  住友スリーエム梶@化学製品技術部
4.「バートレルâ溶剤とその用途」
   菊地秀明   三井・デュポンフロロケミカル梶@技術センター
5.「炭化水素系洗浄剤(ナフテゾール)の効果的使用法」
   菊田敏郎   日本石油化学梶@生産研究所

 セッション3 洗浄剤2(非水系・水系洗浄剤):
1.「炭化水素系洗浄剤NSクリーンへの代替事例」
   森本陽士   日鉱石油化学梶@化成品第二部
2.「不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤『ユトルーナ』を用いた洗浄システム応用例」
   浅田英治   潟gクヤマ SECシステム営業部
3.「フロン代替プリント基板洗浄剤の研究(2)−クロロカットPC101の特徴と適用事例」
   小布施 洋  栗田工業梶@総合研究所
4.「代替洗浄剤に関する当社の取り組み(2)−導入実施例などについて」
   気賀澤 繁  第一工業製薬梶@産業資材事業部化成品研究部

 セッション4 洗浄システム:
1.「半導体パッケージの洗浄」
   名越英二   花王梶@化学品研究所第3研究室1グループ
2.「ダイレクトパス洗浄システムの洗浄事例」
   前野純一   荒川化学工業梶@アルファ・プロジェクト室
3.「オゾン水(ヒドロキシラジカル水)を用いた洗浄技術」
   立幅義人   島田理化工業梶@研究開発部技術開発課
4.「水系洗浄剤『ニッカサンクリーンシリーズ』の特徴と使用事例」
   向川陽一   日華化学梶@研究開発本部精密化学品研究室
5.「水洗浄における細穴洗浄技術の刷新」
   半坂俊晴   みくに工業梶@技術部主任研究員    


第1回JICC洗浄技術フォーラム ’96
平成8年(1996年)2月21日(水)
東京港区芝公園 機械振興会館

 基調講演:
1.「CFCを代替する新規フッ素化合物の開発」
   関屋 章   物質工学工業技術研究所 有機合成化学部フッ素化学研究室長

 1.ユーザーのフロン・エタン代替洗浄技術、水系洗浄剤:
1.「カメラ等精密部品における代替洗浄方法について」
   木村輝三   キャノン梶@環境技術センター環境管理部部長    
2.「プリント基板におけるフラックス洗浄目的」
   田辺一彦   日本電気梶@パーソナルワークステーション事業部生産技術部主任    
3.「水系洗浄剤KaseiクリーナーKC700」
   川島理一郎  三菱化成梶@機能化学品カンパニー中間体事業部次長  
4.「代替洗浄剤に関する当社の取り組み」
   気賀澤 繁   第一工業製薬梶@産業資材事業部化成品第一研究部
5.「メンテナンスフリー洗浄剤」
   北澤宏造   花王梶@化学品研究所1研5Gグループリーダー

 2.ユーザーのフロン・エタン代替洗浄技術、非水系洗浄剤:
1.「フラックス洗浄における炭化水素系洗浄剤の選定」
   斉藤茂樹   鞄c村製作所 技術開発本部材料開発2部開発1課係長
2.「キーボードスイッチ部品洗浄の脱エタン化」
   鈴木 長   鰍hHI 製造部付
3.「炭化水素系溶剤/パーフルオロカーボンを用いた洗浄システム」
   町田武志   住友スリーエム梶@相模原事業所
4.「長尺管の炭化水素系洗浄剤によるスプレー洗浄」
   片山隆夫   出光興産梶@営業研究所第一研究室主任
5.「新洗浄剤『NSクリーン』の優れた特徴と代替成功事例」
   渡辺 勉   日鉱石油化学梶@化成品第二部技師長
6.「シリコーン系洗浄剤の洗浄剤としての特徴」
   熊谷 勝   鞄月ナ 川崎事業所内テクノケア部テクノケア技術担当主務

 3.団体洗浄剤、水系洗浄剤:
1.「新しいブラスト剤(固体洗浄剤)」
   森下 悟   東ソー梶@ファインケミカル事業部企画開発室参事
2.「金属部品の洗浄方式」
   天田 徹   ヘンケル白水鞄結梛Z術・生産本部技術部RM課課長
3.「フロン代替プリント基板洗浄剤の研究−洗浄剤の物性と洗浄効果との関係−」
   小布施 洋  栗田工業梶@総合研究所薬品研究グループ新規薬品研究チーム
4.「クラレの洗浄剤『ソルフィットクリーナー』について」
   神田宏樹   潟Nラレ イソプレンケミカル事業本部化学品販売部
5.「水系ノンリンス洗浄の特徴と実例」
   小林博司   旭化成工業梶@溶剤技術部主査
6.「不燃性ノンリンス型準水系洗浄剤『ユトルーナ』」
   馬場秀治   潟gクヤマ SECシステム営業部主任

 4.洗浄装置(1)(スプレー洗浄、真空洗浄、超音波洗浄):
1.「洗浄機Kシリーズと代替事例」
   井沢正雄   オリンパス光学工業梶@生産技術本部EEプロジェクト課長
2.「炭化水素系洗浄剤を使用した真空脱脂洗浄装置と応用例」
   菊地 博   日本真空技術梶@産業機器事業部脱脂洗浄技術部主事補
3.「超音波洗浄槽ノ有限要素シミュレーション」
   安藤英一   島田理化工業梶@研究開発部技術開発課課長
4.「中小企業向のフロン・エタン全廃後の水系超音波洗浄装置の新展開」
   柴野佳英   エス・アンド・シー梶@代表取締役
5.「直通式洗浄装置『ダイレクトパス』による洗浄方法」
   前野純一   荒川化学工業潟Aルファプロジェクト室主任

 5.洗浄装置(2)(超音波洗浄、洗浄評価、超臨界洗浄):
1.「炭化水素系洗浄剤とPFCを組合せた新洗浄剤システム」
   河場邦夫   潟Jイジョー 産機システム事業部
2.「ナフテン系溶剤の温風乾燥その安全性について」
   秋山 正   潟_ン科学 研究開発部部長
3.「フロン・エタンに依存しない新しい洗浄技術」
   中尾恒彦   ジャパン・フィールド梶@福社長
4.「袋ネジ穴の洗浄」
   荒川 納   日本化工機工業梶@研究開発部開発室長
5.「洗浄剤と乾燥速度」
   梅木義彦   椛蜉站@器工業所 開発生産事業本部第二課課長
6.「超臨界流体を利用した新しい精密洗浄法」
   南野康信   三菱化工機梶@研究開発部研究第1グループ主務

 6.洗浄周辺技術(蒸留、排ガス、排水、新技術):
1.「ミリセコンド・フラッシュ法による洗浄油再生回収装置」
   今井茂博   三井物産化学プラント梶@営業本部営業企画室技術統括理事
2.「洗浄液のリサイクル使用について」
   岡上公彦   リキッドコンサンド梶@取締役社長
3.「非イオン界面活性剤を用いた水形洗浄のクローズドシステム化」
   佐藤広昭   渇`原総合研究所 環境研究所主任研究員
4.「荏原溶剤回収装置」
   丸山眞策   渇`原総合研究所 環境開発センターEA技術開発部開発二課
5.「常圧プラズマによる洗浄力向上」
   西崎和人   島田理化工業梶@研究開発部

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